開示特許一覧表(Ver.2312)

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開示番号 発明の名称 発明の概要 出願番号 出願日
2312001 グラフェン構造の製造方法及びこれを用いた半導体装置の製造方法 本発明は、Siなどの基材をベースに用いて、その表面に均一で大面積のグラフェン構造を形成する製造方法、及びこれを用いた高移動度の電界効果トランジスタなどの半導体装置を提供するものである。 特願2011-240782 H23.11.2
2312002 紫外線透過ゲート電極を有する電界効果トランジスタ 本発明は、基板の自由度があり、待機時(光非照射時)の電力消費が小さく、紫外線を有効に捉えるフォトディテクタであり、さらにはフォトディテクタが電源回路または増幅回路と一体化され得ることを特徴とする。 特願2011-243007 H23.11.7
2312003 三次元仮想環境システムにおける香り発生方法及び三次元仮想環境システム 嗅覚メディアを用いた三次元仮想環境システムにおいて、香りの出力タイミングを動的に制御し、高い臨場感を実現することを特徴とする香り発生方法。 特願2011-250564 H23.11.16
2312004 小型多自由度の力覚提示マニピュレータ 本発明の小型自由度な力覚提示マニピュレータでは、新型パラレルリンク機構により、小型、多自由度でありながら、高品質な力覚提示が可能である。また提案の機構は、一般的なマニピュレータとしても応用可能である。 特願2011-252782 H23.11.18
2312005 ヘテロアレーンスルホニル化キナアルカロイドアミン触媒およびこれを用いるβ -アミノカルボニル化合物の製造方法 新規不斉触媒を開発した。この触媒は、ケチミン類への求核付加反応において高エナンチオ選択的に生成物を与える。本触媒の開発によりこれまで合成が難しかった医薬品類合成の問題解決ができる可能性がある。 特願2011-263235 H23.12.1

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